光刻机

发布时间:2016-05-17访问量:33设置


仪器名称

光刻机

型号

MJB4

厂家

德国SUSS公司

主要规格及技术指标

基片大小:100 mm直径或是4” * 4”的基片

基片厚度:可以实现4 mm厚度的基片曝光

掩膜板大小:可以实现从2”* 2”5”* 5”掩膜板

基片种类:可以实现碎片基片(最小5 mm*5 mm)到4”* 4”的基片的曝光

光源强度:可以安装500 W的氙灯

支持恒定光强或恒定功率模式

分辨率:软接触方式可以实现2 μm的结构

硬接触方式可以实现1 μm的结构

主要功能及应用范围

光刻机是半导体制造业的重要设备,主要用于加工微电机,目标实现1微米甚至亚微米级别的结构。

主要附件

减震台

彭明发

联系电话

65883196

E-mail

mfpeng@suda.edu.cn


责任编辑:彭明发

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