等离子体系统

发布时间:2016-05-17访问量:20设置


仪器名称

等离子体系统

型号

IoN 40

厂家

德国普发拓普公司

主要规格及技术指标

1.反应腔室:腔体材料铝;尺寸229 mm*330 mm*483 mm

2.供气系统:两路气;质量流量计(MFC)控制

3.真空系统:预真空50 mTorr;工艺压力120-2000 mTorr

4.射频源:射频频率13.56 MHz;功率0-300 W连续可调

5.控制系统:清洗流程自动控制;

主要功能及应用范围

等离子体去胶机是光刻工艺所必需的辅助设备,在半导体工艺和生物技术方面都有广泛应用。具体应用可归纳为以下几个方面:

等离子体表面改性;有机物表面等离子体清洗;绑定强度增强;等离子体刻蚀应用;等离子体灰化应用;增强或减弱浸润性。

主要附件

干泵

彭明发

联系电话

65883196

E-mail

mfpeng@suda.edu.cn



责任编辑:彭明发


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