磁控溅射镀膜机

型号

PVD75

厂家

科特莱思科（上海）商贸有限公司

主要规格及技术指标

1.配装3支Ф2英寸的磁控溅射靶，其中一支可镀铁磁材料。

2.磁控溅射靶射频（RF）、直流（DC）兼容。

3.每只磁控溅射靶均配备挡板，基片配挡板。

4.极限真空：5*10-5 Pa；工作背景真空：7*10-4 Pa.

5.基片尺寸≤Ф4英寸。

6.基片可加热至500 ℃.

7.控制系统：PC+PLC全自动控制。

主要功能及应用范围

磁控溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。

主要附件

机械泵

联系人

朱文昌

联系电话

65880223

E-mail

wczhu@suda.edu.cn