反应离子刻蚀机

仪器名称

反应离子刻蚀机

型号

Plasmalab 80plus RIE

厂家

英国牛津仪器等离子技术公司

主要规格及技术指标

1.刻蚀材料范围：Si、SiO₂、Si₃N₄等硅基材料；

2.样品尺寸：最大可加工基片尺寸200 mm；

3.射频电源：射频13.56 MHz，功率0-600 W可调；

4.供气系统：8路刻蚀气，包括CF₄、CHF₃、SF₆、N₂、He、O₂、Ar等；

5.控制系统：可设定刻蚀程序，刻蚀过程自动控制。

主要功能及应用范围

反应离子刻蚀机是微米纳米器件制备的必备设备。反应离子刻蚀机通过交变的电磁场在有反应气体的腔室内激发等离子体，通过等离子体中的气体离子和化学活性的自由基与材料表面的化学反应和离子轰击表面的过程刻蚀材料。

主要附件

干泵

联系人

朱文昌

联系电话

15301453461

E-mail

wczhu@suda.edu.cn